(1)  低溫電性量測系統(自有設備)：由本實驗室前年已建置完成一套「低溫電性量測系統」，目前使用中，溫度範圍10K~450K，磁場可達1.25 teslas

(2)  超高速離心機

(3)  行星式微奈米粉體研磨機

(4)  R-T曲線的量測設備(自有設備)：四點量測法相關電表、電流源2400、溫控器330與相關介面

(5)  高溫管狀爐(自有設備)：本實驗室現有高溫管狀爐二部(93年度國科會計畫購置設備一部)，做為樣品真空、通氧氣或氮氣燒結或退火用

(6)  方形高溫燒結爐 (自有設備)：本實驗室已有1200、1400、1600℃數部

(7)  XRD粉晶及薄膜繞射儀(自有設備)：樣品之結構成分份分析所需之XRD繞射儀，本校由教育部資助購置，由計畫申請人負責採購管理，目前已在使用中並開放對外暫時免費服務

(8) Alpha-step膜厚測試儀(自有設備)：由計畫申請人負責管理的Alpha-step膜厚測試儀可做薄膜樣品膜厚之測試，開放對外免費服務，使用次數相當頻繁

(9) 原子力顯微鏡AFM（自有設備）：顯微觀察。

(10) 薄膜濺鍍（Sputtering）系統(自有設備)：薄膜沈積使用設備，亦為本校由教育部資助購置，由計畫申請人負責採購管理，目前使用中